خلاصه: روش هاي مرسوم لايه نشاني و توليد سل(ذرات معلق در محلول) نانو ذرات دي اكسيد تيتانيوم به شرح زير مي باشند: 1- تهيه محلول سل نانو ذرات دي اكسيد تيتانيوم در محيط خنثي و اسيدي 2- تهيه سل نانو ذرات دي اكسيد تيتانيم با استفاده از اكسنده آب اكسيژنه سطوح پوشش داده شده با نانو ذرات توليد شده به روش هاي مذكور داراي معايب زير هستند: 1- عدم پايداري سطوح پوشش داده شده با نانو ذرات دي اكسيد تيتانيم 2- عدم تكرار پذيري آلاينده زدايي سطوح لايه نازك دي اكسيد تيتانيم 3- درصد آلاينده زدايي ضعيف لايه نازك دي اكسيد تيتانيم با توجه به معايب روش هاي مذكور ما روش جديدي را با عنوان" روش پيشرفته لايه نشاني نانو ذرات دي اكسيد تيتانيوم به روش شيميايي سل-ژل با تكنيك غوطه وري روي سطح شيشه با چسبندگي بالا(TiO2 NLFDC) طراحي كرده و مورد استفاده قرار داديم كه شامل چهار مرحله زير است: 1- تهيه محلول سل نانو ذرات دي اكسيد تيتانيم با استفاده از عامل بازدارنده استيل استون و قالب پلي اتيلن گليكول 2- لايه نشاني سل نانو ذرات بر روي سطح شيشه با تكنيك غوطه وري 3- خشك كردن در دماي C50-30 درجه 4- حرارت دهي در دماي بينC 500-400 درجه